青島鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變材料表面的反射和透射特性。
在可見(jiàn)光和紅外線波段范圍內(nèi),大多數(shù)金屬的反射率都可達(dá)到78%~98%,但不可高于98%。無(wú)論是對(duì)于CO2激光,采用銅、鉬、硅、鍺等來(lái)制作反射鏡,采用鍺、砷化鎵、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學(xué)元件材料,還是對(duì)于YAG激光采用普通光學(xué)玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學(xué)元件材料,都不能達(dá)到全反射鏡的99%以上要求。不同應(yīng)用時(shí)輸出鏡有不同透過(guò)率的要求,因此必須采用光學(xué)鍍膜方法。
對(duì)于CO2激光燈中紅外線波段,常用的鍍膜材料有氟化 釔、氟化鐠、鍺等;對(duì)于YAG激光燈近紅外波段或可見(jiàn)光波段,常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦等。除了高反膜、增透膜之外,還可以鍍對(duì)某波長(zhǎng)增反射、對(duì)另一波長(zhǎng)增透射的特殊膜,如激光倍頻技術(shù)中的分光膜等。
一、原理:
光的干涉在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜,一般用來(lái)控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過(guò)率,以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展,對(duì)膜層的反射率和透過(guò)率有不同的要求,促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。
光學(xué)零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強(qiáng)度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。
二、材料:
1、氟化鎂
材料特點(diǎn):無(wú)色四方晶系粉末,純度高,用其制備光學(xué)鍍膜可提高透過(guò)率,不出崩點(diǎn)。
2、二氧化硅
材料特點(diǎn):無(wú)色透明晶體,熔點(diǎn)高,硬度大,化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高,用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜,蒸發(fā)狀態(tài)好,不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見(jiàn)光用。
3、氧化鋯
材料特點(diǎn) 白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài),具有高的折射率和耐高溫性能,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,純度高,用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜,不出崩點(diǎn)。
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